Berita Industri

Laser untuk Litografi

2021-12-02



Laseruntuk Litografi


Litografi ialah teknik untuk memindahkan corak yang direka secara langsung atau melalui medium perantaraan ke permukaan rata, tidak termasuk kawasan permukaan yang tidak memerlukan corak.
 
Dalam litografi topeng, reka bentuk dicetak pada substrat dan didedahkan dengan alasersupaya bahan yang didepositkan terukir, sedia untuk diproses selanjutnya. Kaedah litografi ini digunakan secara meluas dalam pengeluaran besar-besaran wafer semikonduktor.
 
Keupayaan untuk menayangkan imej tajam ciri-ciri kecil pada wafer dihadkan oleh panjang gelombang cahaya yang digunakan. Alat litografi yang paling canggih hari ini menggunakan cahaya ultraungu dalam (DUV), dan pada masa hadapan panjang gelombang ini akan terus menjangkau ultraungu dalam (193 nm), ultraungu vakum (157 nm dan 122 nm), dan ultraungu melampau (47 nm dan 13 nm). ).
 
Produk yang kompleks dan perubahan reka bentuk yang kerap untuk pasaran IC, MEMS dan bioperubatan -- di mana permintaan untuk pelbagai fungsi dan saiz substrat semakin meningkat -- telah meningkatkan kos pembuatan penyelesaian yang sangat disesuaikan ini sambil mengurangkan jumlah pengeluaran. Penyelesaian litografi berasaskan topeng (topeng) tradisional tidak kos efektif atau praktikal untuk kebanyakan aplikasi ini, di mana kos dan masa yang diperlukan untuk mereka bentuk dan mengeluarkan sejumlah besar kit topeng boleh meningkat dengan cepat.
 
Walau bagaimanapun, aplikasi litografi tanpa topeng tidak dihalang oleh keperluan untuk panjang gelombang UV yang sangat pendek, dan sebaliknya menggunakanlasersumber dalam julat biru dan UV.
 
Dalam litografi tanpa topeng,lasersecara langsung menjana struktur mikro/nano pada permukaan bahan fotosensitif. Kaedah litografi serba boleh ini tidak bergantung pada bahan guna topeng dan perubahan susun atur boleh dibuat dengan cepat. Akibatnya, prototaip dan pembangunan pantas menjadi lebih mudah, dengan fleksibiliti reka bentuk yang lebih besar, sambil mengekalkan kelebihan liputan kawasan yang besar (seperti wafer semikonduktor 300mm, paparan panel rata atau PCBS).
 
Untuk memenuhi keperluan pengeluaran yang cepat,laserdigunakan untuk litografi tanpa topeng mempunyai ciri yang serupa dengan yang digunakan untuk aplikasi topeng:
 
Sumber cahaya gelombang berterusan mempunyai kuasa jangka panjang dan kestabilan panjang gelombang, lebar garisan sempit dan perubahan kecil topeng.
Kestabilan jangka hayat dengan sedikit penyelenggaraan atau gangguan kitaran pengeluaran adalah penting untuk kedua-dua aplikasi.
Laser DPSS mempunyai lebar garis sempit ultra-stabil, kestabilan panjang gelombang dan kestabilan kuasa, dan sesuai untuk dua kaedah litografi.
Kami mereka bentuk dan mengeluarkanlaserberkekuatan tinggi, frekuensi tunggal dengan kestabilan panjang gelombang yang tiada tandingan, lebar garisan sempit dan jejak kecil pada julat panjang gelombang panjang kering yang panjang -- menjadikannya sesuai untuk penyepaduan ke dalam sistem sedia ada.